Sasaran Sputtering Molibdenum

Sasaran Sputtering Molibdenum

1. Target sputtering molibdenum adalah bahan logam molibdenum dengan kemurnian tinggi yang digunakan sebagai sumber sputtering di berbagai bidang persiapan film. Kemurnian target sputtering logam molibdenum umumnya harus mencapai lebih dari 99,95% untuk memastikan kualitas dan persyaratan kemurnian film yang disiapkan.
2. Titik lebur: 2620 derajat
3. Permukaan: dipoles
4. Bentuk: disesuaikan
Deskripsi Produk

 

Kemurnian tinggi: persyaratan umum kemurnian 99,95% atau lebih, dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan target sputtering molibdenum dengan kemurnian lebih tinggi.

Kemampuan proses yang baik: molibdenum mudah diolah menjadi berbagai bentuk target, seperti bentuk pelat, bentuk silinder putar, persegi, dan sebagainya.

Ketahanan aus yang baik: kekerasan tinggi molibdenum, tahan panas dan tahan korosi, tidak mudah berubah bentuk, sehingga target molibdenum dapat mempertahankan efek sputtering stabil jangka panjang.

Mudah dibersihkan: Karena sifat kimia dari target Molibdenum itu sendiri lebih stabil, mudah dibersihkan selama pengoperasian dan mengurangi polusi pengotor.

Dapat disesuaikan: Spesifikasi, ukuran dan bentuk target Molibdenum dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan yang berbeda untuk memenuhi persyaratan proses persiapan yang berbeda.

 

Parameter Produk

 

 

Bahan

Molibdenum murni 99,95%

Spesifikasi

Bahan target molibdenum dapat diproses sesuai kebutuhan pelanggan

Bidang aplikasi

1, lapisan vakum 2, industri kaca

 

 

Tampilan Detail Gambar

 

 

Molybdenum Sputtering Target process
Molybdenum Sputtering Target in stock

 

Molybdenum Sputtering Target price
Molybdenum Sputtering Target For Sale

 

 

Aplikasi Produk

 

Target sputtering molibdenum adalah bahan penting dengan berbagai aplikasi.

Target sputtering molibdenum terutama digunakan pada komponen elektronik, sel surya, layar sentuh, bahan nano, dll. Secara khusus, target sputtering molibdenum digunakan untuk komponen elektronik karena insulasinya yang sangat baik, konduktivitas termal, dan ketahanan terhadap korosi, membantu meningkatkan kinerja dan keandalan. perangkat. Target sputtering molibdenum juga merupakan bahan utama untuk membuat sel surya, bertindak sebagai elektroda belakang dalam sel surya. Selain itu, digunakan pada layar sentuh untuk mencapai efek sentuh definisi tinggi dan sensitivitas tinggi, banyak digunakan pada tablet PC, ponsel pintar, buku elektronik, dll., memberikan pengalaman pengoperasian yang lebih nyaman bagi pengguna. Selain itu, bahan nano buatan target sputtering molibdenum dapat digunakan secara luas dalam biomedis, katalisis kimia, penyimpanan energi elektrokimia, dll. Misalnya, nanofilm molibdenum dapat digunakan sebagai biosensor untuk meningkatkan sensitivitas dan spesifisitas deteksi biologis. Sebagai bahan penting dalam bidang teknologi tinggi modern, target sputtering molibdenum berkembang menuju fungsi, kinerja tinggi dan perlindungan lingkungan, mendorong proses ilmu pengetahuan dan teknologi yang inovatif.

 

Proses produksi

 

Molybdenum processing workpiece production flow chart

 

Pertanyaan Umum

 

T: Apa target sputtering molibdenum?

A: Target sputtering molibdenum adalah bahan yang digunakan dalam proses deposisi uap fisik (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis molibdenum pada substrat. Ini adalah sepotong molibdenum murni padat yang dibentuk menjadi bentuk yang diinginkan untuk digunakan dalam mesin sputtering.

T: Bagaimana target Molibdenum diproduksi?

J: Target sputtering molibdenum diproduksi melalui proses kompleks yang melibatkan beberapa langkah, termasuk peleburan, pengecoran, penempaan, pemesinan, dan pemolesan. Langkah awal melibatkan penggunaan tungku induksi vakum untuk melelehkan molibdenum mentah dan menuangkannya ke dalam cetakan. Ingot yang dihasilkan kemudian mengalami beberapa putaran penempaan, pemesinan, dan pemolesan untuk membuat target sputtering akhir.

T: Apa keuntungan menggunakan target Molibdenum?

J: Target sputtering molibdenum menawarkan sejumlah manfaat untuk aplikasi PVD, termasuk konduktivitas termal dan listrik yang sangat baik, titik leleh yang tinggi, ketahanan terhadap korosi, dan laju sputtering yang rendah. Ia juga sangat murni dan seragam, sehingga menghasilkan pengendapan film yang konsisten.

T: Industri apa yang menggunakan target molibdenum?

J: Target sputtering molibdenum digunakan di berbagai industri, mulai dari semikonduktor, fotovoltaik, hingga arsitektur. Hal ini sangat penting dalam produksi perangkat elektronik, seperti chip komputer, lampu LED, dan sel surya.

T: Bagaimana cara memastikan kualitas target molibdenum?

A: Untuk memastikan kualitas target sputtering molibdenum, penting untuk memilih produsen terpercaya yang menggunakan bahan baku berkualitas tinggi dan prosedur kontrol kualitas yang ketat. Selain itu, penting untuk menangani dan menyimpan target dengan benar untuk mencegah kerusakan dan kontaminasi. Terakhir, inspeksi dan pengujian rutin dapat membantu mengidentifikasi masalah apa pun dan memastikan kinerja optimal.
Hubungi kami

Telp : +86 15596885501 Lisa Yang

+86 18700703333 Elsa Lin

 

FAKS : 0917-3381186

 

Email : lisayang@ehisen-anode.com

admin@ehisen-anode.com

Tambahkan: No. 28, Taman Industri Gaoya, Distrik Gaoxin, Kota Baoji, Provinsi Shaanxi

20231211150808

 

Tag populer: target sputtering molibdenum, produsen, pemasok, pabrik target sputtering molibdenum Cina, Struktur sarang lebah molibdenum, elemen paduan molibdenum, laminasi molibdenum, Properti Molybdenum, fase molibdenum, Komposit Molybdenum

Kirim permintaan